Materiale di rivestimento PVD
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![Bersaglio di sputtering di ossido di zinco (ZnO)]()
Bersaglio di sputtering di ossido di zinco (ZnO)Target di sputtering in ossido di zinco (ZnO) utilizzato per la deposizione fisica da vapore con sputtering magnetron. Vari diametri, spessori e purezze disponibili per adattarsi a tutti i...Più -
![Bersaglio di sputtering di fluoruro di magnesio (MgF2)]()
Bersaglio di sputtering di fluoruro di magnesio (MgF2)Il fluoruro di magnesio è un sale cristallino bianco ed è trasparente su un'ampia gamma di lunghezze d'onda, con usi commerciali nell'ottica che sono utilizzati anche nei telescopi spaziali. Si...Più -
![Bersaglio di sputtering di ossido di litio e cobalto (LiCoO2)]()
Bersaglio di sputtering di ossido di litio e cobalto (LiC...L'ossido di litio e cobalto è una struttura a strati, che fornisce un tunnel bidimensionale per la migrazione degli ioni di litio. Il target di sputtering LiCoO2 è un ottimo materiale per...Più -
![Bersaglio di sputtering di ossido di molibdeno (MoO3)]()
Bersaglio di sputtering di ossido di molibdeno (MoO3)Il target di sputtering di ossido di molibdeno può essere utilizzato in semiconduttori, deposizione chimica da vapore (CVD), display a deposizione fisica da vapore (PVD) e applicazioni ottiche....Più -
![Bersaglio di sputtering di ossido di magnesio (MgO)]()
Bersaglio di sputtering di ossido di magnesio (MgO)L'ossido di magnesio nei target di sputtering si riflette principalmente nella formazione di pellicole ad alta velocità, nell'applicazione nei settori della microelettronica e del fotovoltaico, in...Più -
![Bersaglio di sputtering di bisolfuro di molibdeno (MoS2)]()
Bersaglio di sputtering di bisolfuro di molibdeno (MoS2)MoSi2 è una struttura tetragonale. È una fase intermedia con il più alto contenuto di silicio nel sistema di lega binaria Mo-Si. È un composto intermetallico Dalton con una composizione fissa,...Più -
![Bersaglio di sputtering di ossido di niobio (Nb2O5)]()
Bersaglio di sputtering di ossido di niobio (Nb2O5)I nostri target in ossido di niobio sono prodotti utilizzando processi avanzati di pressatura a caldo sotto vuoto, pressatura isostatica a caldo, sinterizzazione a freddo e spruzzatura termica. I...Più -
![Bersaglio di sputtering di ossido di nichel (NiO)]()
Bersaglio di sputtering di ossido di nichel (NiO)Il target NiO è un materiale utilizzato nelle tecnologie di crescita di film sottili come la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD). Queste tecnologie svolgono...Più -
![Bersaglio di sputtering al carburo di silicio (SiC)]()
Bersaglio di sputtering al carburo di silicio (SiC)Questa sezione esamina in dettaglio le caratteristiche di base dei target in carburo di silicio, dalle sue proprietà chimiche e fisiche, ai metodi di preparazione, fino a un'analisi completa degli...Più -
![Bersaglio di sputtering di monossido di silicio (SiO)]()
Bersaglio di sputtering di monossido di silicio (SiO)Il monossido di silicio è un composto inorganico con formula chimica SiO. È una polvere amorfa di colore da marrone nero a loess a temperatura e pressione ambiente.Più -
![Bersaglio di sputtering di ossido di alluminio (Al2O3)]()
Bersaglio di sputtering di ossido di alluminio (Al2O3)Il materiale target in ossido di alluminio, questo materiale ceramico ad alta densità e purezza, non solo ha un'eccellente stabilità, ma può anche resistere ad ambienti termici estremi. Svolge un...Più -
![Bersaglio per sputtering di nitruro di alluminio (AlN)]()
Bersaglio per sputtering di nitruro di alluminio (AlN)Il bersaglio per sputtering di nitruro di alluminio può essere anche chiamato nitruro di alluminio ad alta purezza, materiale di deposizione di film sottile, bersaglio per l'industria dei...Più
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