Descrizione del target di sputtering di afnio Hf al 99,95%.
I film sottili a base di afnio- realizzati con il bersaglio di sputtering YITECH di afnio (Hf) vengono utilizzati come isolante nelle nuove generazioni di semiconduttori. Il nostro target per sputtering di afnio è costituito da una raffinata barra di cristallo, che garantisce un basso contenuto di zirconio, elevata purezza ed elevata affidabilità. Il film sottile impedisce la diffusione del rame nel silicio. L'ossido di afnio amorfo ha un'elevata costante dielettrica, che consente di ridurre la corrente di dispersione di gate e migliora le prestazioni dell'elettronica.
Applicazioni del target di sputtering di afnio al 99,95% Hf
• Elettronica
• Semiconduttore
• Display a schermo piatto
Specifiche del target di sputtering di afnio al 99,95% Hf
| Tipo materiale | Afnio |
| Simbolo | Hf |
| Peso atomico | 178.49 |
| Numero atomico | 72 |
| Colore/Aspetto | Acciaio grigio, metallizzato |
| Conducibilità termica | 23 W/m.K |
| Punto di fusione (grado) | 2,227 |
| Coefficiente di dilatazione termica | 5.9 x 10-6/K |
| Densità teorica (g/cc) | 13.31 |
| Rapporto Z | 0.36 |
| Sputare | DC |
| Densità di potenza massima (Watt/pollice quadrato) |
50* |
| Purezza | 99,9%(EX Zr) |
| Misurare | Dia. 1pollici - 8pollici |
| Tipo di legame | Indio, Elastomero |
Domande frequenti sul target sputtering di afnio 99,95% Hf
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