Bersagli per la distruzione del metallo

• Bersaglio sputtering in carbonio 4N personalizzabile

  I nostri target-per sputtering di carbonio 4N ad elevata purezza sono fabbricati con materiale di carbonio puro al 99,99%, caratterizzato da bassi livelli di impurità e che li rende ideali per...

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• Obiettivi personalizzati per lo sputtering del boro

  Forniamo target di boro denso e di elevata purezza, perfettamente adatti per processi di rivestimento e semiconduttori. Supportiamo la fabbricazione personalizzata sulla base di disegni tecnici,...

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• Bersaglio rotondo in tungsteno 3N5 personalizzato

  Offriamo bersagli circolari in tungsteno-personalizzati con purezza 3N5 (99,95%). Prodotti utilizzando la metallurgia delle polveri, presentano una microstruttura uniforme, un'alta densità e sono...

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• Bersaglio sputtering Hf ad elevata purezza personalizzato

  Offriamo target per sputtering di afnio di elevata purezza-personalizzati-con una purezza superiore al 99,9%, caratterizzati da densità uniforme e microstruttura fine. Progettati specificatamente...

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• Asta di afnio 3N5 personalizzata

  Bacchette di afnio 3N5 ad alta-purezza, purezza del 99,95%, qualità di grado-nucleare! Resistente alle temperature ultra-elevate e alla forte corrosione, la prima scelta per reattori nucleari,...

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• Bersaglio in stagno 3N personalizzato

  Il target per lo sputtering in stagno 3N ad elevata-purezza e la piastra posteriore in rame personalizzata raddoppiano l'efficienza dello sputtering! L'incollaggio senza giunzioni previene il...

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• Bersaglio rettangolare in afnio 3N5 personalizzabile

  Target di afnio ad elevata purezza 3N5-, purezza del 99,95%, dimensioni rettangolari personalizzate precise al micrometro! La prima scelta per il rivestimento di semiconduttori e il rivestimento...

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• Bersaglio per sputtering di magnesio 4N Mg

  I target per sputtering di magnesio 4N sono materiali per sputtering metallici di elevata-purezza con una purezza maggiore o uguale al 99,99%. Sono caratterizzati da grana fine e composizione...

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• Obiettivo sputtering di afnio Hf al 99,95%.

  Bersaglio per sputtering di afnio ad alta purezza-99,95%, target in metallo Hf di grado aerospaziale-, dimensioni personalizzate, piastra di supporto in rame incollato, utilizzato per pellicole...

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• Bersaglio per tubo in zirconio

  I target dei tubi in zirconio sono tubi in zirconio a pareti sottili,-di elevata purezza,-resistenti alla corrosione-e alle alte-temperature, che producono una pellicola densa e uniforme durante...

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• Bersaglio di sputtering al berillio

  Il berillio è un metallo grigio acciaio, piuttosto fragile a temperatura ambiente, e le sue proprietà chimiche assomigliano un po' a quelle dell'alluminio.

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• Bersaglio per sputtering di cromo (Cr)

  Il target di sputtering al cromo ha le stesse proprietà del cromo metallico (Cr), il cromo è un elemento chimico con il simbolo Cr e numero atomico 24, è un metallo di transizione grigio-acciaio,...

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