Obiettivi di sputtering in lega

• ZRTI Sputtering Target

  L'obiettivo di sputtering ZRTI è utilizzato principalmente nell'industria delle informazioni elettroniche, nel campo di rivestimento in vetro, nei materiali resistenti alla corrosione ad alta...

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• Target di sputter ZRTI

  Gli obiettivi di sputter di ZRTI sono uno degli obiettivi di sputtering in metallo comunemente usati, che possono essere divisi in bersagli planare, obiettivi spruzzati e bersagli rotanti, ecc. E...

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• Zirconio titanio zrti sputtering bersaglio

  Zirconio titanio zrti bersaglio di sputtering è ampiamente utilizzato nel rivestimento a vuoto a ioni multi-arco o nel PVD di sputtering di magnetron nell'industria e può essere utilizzato come...

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• Bersaglio di sputtering in silicio in titanio

  Target di sputtering in silicio in titanio ha le caratteristiche di elevata resistenza meccanica, buona resistenza all'usura, forte resistenza alla corrosione e buona resistenza all'impatto,...

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• Target di sputtering in lega Cr-Ti

  I rivestimenti a film sottile di alta qualità sputati dal bersaglio di sputtering in lega CR-TI non sono solo usati come rivestimenti decorativi per orologi, elettronica, componenti di controllo e...

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• Bersaglio sputtering del cromo titanio

  Le leghe di cromo in titanio sono spesso utilizzate nel campo industriale, principalmente per la produzione di condensatori nelle centrali elettriche, parti del compressore per motori, elettrodi...

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• Target di sputtering in lega di cromo in titanio

  L'obiettivo di sputtering in lega di cromo in titanio ha le caratteristiche di una forte resistenza all'impatto, un'elevata resistenza alla corrosione, un'alta qualità del rivestimento, una durata...

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• Bersaglio per sputtering in titanio tungsteno (WTi)

  I target per sputtering di tungsteno e titanio sono prodotti mediante la tecnologia della metallurgia delle polveri, ampiamente utilizzata per celle solari a film sottile e semiconduttori.

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• Bersaglio di sputtering di alluminio e neodimio (AlNd)

  La lega di alluminio e neodimio è un bersaglio di sputtering magnetron comunemente utilizzato. L'alluminio ha un punto di fusione di 660 gradi, densità di 2,7 e conduttività termica di 0,53,...

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• Bersaglio di sputtering di rame e alluminio (AlCu)

  Il target di sputtering in alluminio e rame è perfetto per una serie di settori e applicazioni, grazie alla sua elevata durezza, resistenza alla trazione e leggerezza. Di solito ha un contenuto di...

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• Bersaglio di sputtering di alluminio-scandio (AlSc)

  Lo scandio ha un buon effetto di rafforzamento della dispersione sull'alluminio. È una struttura stabile non ricristallizzabile durante la lavorazione a caldo o lo stato di ricottura. Alcune leghe...

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• Bersaglio di sputtering di alluminio e silicio (AlSi)

  I target vengono preparati miscelando polveri di alluminio e silicio, seguite da compattazione fino alla massima densità. I ​​materiali così compattati vengono opzionalmente sinterizzati e quindi...

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