Bersaglio di sputtering di ossido di magnesio (MgO)
Bersaglio di sputtering di ossido di magnesio (MgO)

Bersaglio di sputtering di ossido di magnesio (MgO)

L'ossido di magnesio nei target di sputtering si riflette principalmente nella formazione di pellicole ad alta velocità, nell'applicazione nei settori della microelettronica e del fotovoltaico, in specifici processi di preparazione e in estese applicazioni di rivestimento. Queste applicazioni traggono vantaggio dalle proprietà fisiche e chimiche dell'ossido di magnesio stesso.
Invia la tua richiesta
Descrizione dei prodotti

 

L'ossido di magnesio nei target di sputtering si riflette principalmente nella formazione di pellicole ad alta velocità, nell'applicazione nei settori della microelettronica e del fotovoltaico, in specifici processi di preparazione e in estese applicazioni di rivestimento. Queste applicazioni traggono vantaggio dalle proprietà fisiche e chimiche dell'ossido di magnesio stesso.

 

L'applicazione dell'ossido di magnesio (MgO) nei target di sputtering si riflette principalmente nei seguenti aspetti:

Formazione di film ad alta velocità: i target di sputtering di ossido di magnesio utilizzano MgO e sostanze conduttive come componenti principali. Questa speciale composizione consente di orientare il film di MgO quando viene formato con MgO tramite sputtering DC, ottenendo così una formazione di film ad alta velocità durante la formazione del film di MgO.

 

Applicazione nei settori della microelettronica e del fotovoltaico: con lo sviluppo dei settori della microelettronica e del fotovoltaico, i target in ossido di magnesio ad alta purezza sono stati ampiamente utilizzati nei prodotti elettronici e nei rivestimenti fotovoltaici. La sua elevata purezza riduce l'interferenza causata dalle impurità e migliora la stabilità del prodotto e la durata utile.

 

Processo di preparazione: nel processo di preparazione di target ceramici in ossido ad alte prestazioni, l'ossido di magnesio è uno dei target di sputtering comuni. La sospensione di ossido viene ottenuta tramite macinazione a sfere sotto vuoto, quindi stampaggio a sospensione e processo di sinterizzazione, è possibile ottenere target di sputtering in ossido di magnesio ad alta densità e di grandi dimensioni.

 

Applicazione del rivestimento: il rivestimento a film sottile di sputtering del target di sputtering di ossido di magnesio è stato ampiamente utilizzato in settori quali pannelli a cristalli liquidi, touch screen, celle solari a film sottile e diodi a emissione luminosa. L'applicazione di questi rivestimenti trae vantaggio dall'elevato punto di fusione, dall'eccellente isolamento, dalla resistenza al calore, dalle proprietà antiossidanti e anticorrosive dell'ossido di magnesio.

 

Specificazione

 

Prodotto:

Obiettivo di sputtering MgO

Purezza:

99.9%

Misurare:

personalizzato

Forma:

Planare

Tecnologia:

Metallurgia delle polveri

 

Etichetta sexy: target di sputtering di ossido di magnesio (MGO), Cina fornitori di target di sputtering di ossido di magnesio (MGO), fabbrica