Obiettivi di sputtering ceramico
-
Bersaglio di sputtering di monossido di silicio (SiO)Il monossido di silicio è un composto inorganico con formula chimica SiO. È una polvere amorfa di colore da marrone nero a loess a temperatura e pressione ambiente.Più
-
Bersaglio di sputtering di ossido di alluminio (Al2O3)Il materiale target in ossido di alluminio, questo materiale ceramico ad alta densità e purezza, non solo ha un'eccellente stabilità, ma può anche resistere ad ambienti termici estremi. Svolge un...Più
-
Bersaglio per sputtering di nitruro di alluminio (AlN)Il bersaglio per sputtering di nitruro di alluminio può essere anche chiamato nitruro di alluminio ad alta purezza, materiale di deposizione di film sottile, bersaglio per l'industria dei...Più
-
Bersaglio per sputtering di boro (B)Il bersaglio di sputtering di boro ha le stesse proprietà del boro. Il boro è un elemento chimico che ha avuto origine dall'arabo 'buraq', che era il nome del borace. "B" è il simbolo chimico...Più
-
Bersaglio di sputtering di ossido di zinco e alluminio (AZO)AZO target, nome completo zinc oxide aluminum target, è uno speciale materiale semiconduttore drogato. Nello specifico, è un materiale composito composto da ossido di zinco (ZnO) e alluminio (Al),...Più
-
Bersaglio di sputtering di titanato di bario (BaTiO3)Il titanato di bario è un solido cristallino utilizzato in applicazioni optoelettroniche e come ceramica dielettrica nei condensatori con un valore di costante dielettrica pari a 7,000. Il...Più
-
Bersaglio di sputtering di nitruro di boro (BN)Il nitruro di boro (BN) è un cristallo composto da atomi di azoto e atomi di boro. Di solito è nero, marrone o rosso scuro. Ha una struttura di sfalerite, una buona conduttività termica e la sua...Più
-
Bersaglio di sputtering al carburo di boro (B4C)Carburo di boro: è stato scoperto nel XIX secolo come sottoprodotto della ricerca sul boruro metallico e non è stato studiato scientificamente fino al 1830. È la quinta sostanza più dura...Più
-
Bersaglio di sputtering di ossido di cerio (CeO2)L'ossido di cerio è una sostanza inorganica con formula chimica CeO2, polvere giallo chiaro o giallo-marrone. Densità 7,13 g/cm3, punto di fusione 2397 gradi, insolubile in acqua e alcali,...Più
-
Bersaglio di sputtering di ossido di afnio (HfO2)La zirconia (ZrO2), nota anche come biossido di zirconio, è un materiale ceramico ad alte prestazioni molto importante. Grazie al suo elevato punto di fusione, all'elevata resistenza alla...Più
-
Bersaglio di sputtering di ossido di indio (In2O3)L'ossido di indio è un ossido con formula molecolare In2O3. Il prodotto puro è una polvere amorfa bianca o giallo chiaro, che diventa marrone rossastro quando riscaldata. L'ossido di indio è un...Più
-
Bersaglio di sputtering di ossido di indio e stagno (ITO)Il materiale target ITO, Indium Tin Oxide, è un importante materiale conduttivo trasparente. Nel campo della preparazione di film sottili, i target ITO sono ampiamente utilizzati come materia...Più
Siamo fornitori professionali di target per sputtering in ceramica in Cina, specializzati nel fornire un servizio personalizzato di alta qualità. Vi diamo un caloroso benvenuto per acquistare target per sputtering in ceramica scontati in magazzino qui e ottenere un campione gratuito dalla nostra fabbrica. Per una consulenza sui prezzi, contattateci.
