Bersaglio sputtering B4C

Descrizione del bersaglio sputtering B4C

I target di sputtering in carburo di boro (B4C) sono target ceramici ad alte-prestazioni utilizzati principalmente nei processi di deposizione fisica in fase di vapore (PVD)-in particolare nello sputtering con magnetron-per depositare pellicole sottili di carburo di boro sulle superfici del substrato. Caratterizzati dalle loro eccezionali proprietà fisico-chimiche, questi film sottili trovano applicazioni significative in numerosi settori high-tecnologici. I target in carburo di boro sono generalmente prodotti in un formato a disco circolare, con diametri comuni inclusi 50,8 mm e 76,2 mm e spessori disponibili che vanno da 3 mm a 6 mm. I livelli di purezza spaziano dal 99% fino ai gradi di purezza elevata-4N, soddisfacendo le diverse esigenze sia della ricerca scientifica che delle applicazioni industriali. Inoltre, sono disponibili servizi come il collegamento a piastre di supporto in rame per facilitare l'installazione e l'utilizzo.

Caratteristiche del bersaglio sputtering B4C

Durezza eccezionale: la sua durezza è seconda solo a quella del diamante e del nitruro di boro cubico, guadagnandosi il soprannome di "diamante nero".
Eccellente resistenza alle alte-temperature: con un punto di fusione che raggiunge circa 2350 gradi, mantiene prestazioni stabili in ambienti ad alte-temperature.
Buona stabilità chimica: è chimicamente inerte rispetto alla maggior parte degli acidi ma si dissolve negli alcali fusi.
Sezione trasversale- a bassa densità e alto assorbimento di neutroni: con una densità di circa 2,52 g/cm³, assorbe efficacemente i neutroni senza generare isotopi radioattivi, il che lo rende di notevole importanza nell'industria nucleare.
Requisiti di elevata purezza: per l'uso nella preparazione di materiali target ad alte-prestazioni, la polvere di carburo di boro richiede in genere un livello di purezza superiore al 99%; questo rigoroso controllo sulle impurità-come ossigeno, ferro e silicio- è essenziale per garantire le prestazioni del prodotto finale.

Applicazioni del bersaglio sputtering B4C

Rivestimenti-protettivi e resistenti all'usura: forniscono rivestimenti ultra-resistenti all'usura-per componenti e strumenti meccanici, estendendone significativamente la durata; trova applicazione anche nel campo delle protezioni corazzate.
Aerospaziale: utilizzato per rivestimenti superficiali su componenti necessari per resistere a temperature estreme e ambienti difficili.
Energia nucleare e rilevamento di neutroni: funge da materiale ideale per l'assorbimento dei neutroni-da utilizzare nei reattori nucleari; film sottili di carburo di boro ad alta-prestazioni e di ampia{2}}area sono stati applicati con successo nei rilevatori di neutroni, ottenendo la localizzazione di tecnologie e dispositivi chiave.
Semiconduttori e film sottili funzionali: deposito di film sottili funzionali su vari substrati, tra cui vetro, metalli e plastica.

Specifiche del bersaglio sputtering B4C

Controllo di qualità e test del target di sputtering B4C

Domande frequenti per il target sputtering B4C

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R: Sì, siamo una fabbrica B4C Sputtering Target, ma generalmente utilizziamo la nostra società commerciale per gestire le attività all'estero. Sarà più conveniente ricevere la rimessa e organizzare la spedizione.

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Qual è il tempo di consegna?
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