Bersaglio di sputtering di ossido di zinco/ossido di alluminio (AZO-ZnO/Al2O3)

La nostra fabbrica produce target per sputtering in ossido di zinco (AZO) drogato con alluminio ad elevata purezza, con la massima densità possibile e le più piccole dimensioni medie dei grani, per l'uso in applicazioni ottiche e di visualizzazione di semiconduttori, deposizione chimica da vapore (CVD) e deposizione fisica da vapore (PVD).

Produci bersagli di sputtering in ossido di zinco/ossido di alluminio (AZO) con diverse forme come disco, rettangolo, colonna, gradino e forma personalizzata. Il diametro tipico per i bersagli circolari include 1 pollice, 2 pollici, 3 pollici, 4 pollici o 50mm, 60mm, 80mm, 100mm ecc. Lo spessore tipico include 0,125 pollici e 0,25 pollici o 3mm, 4mm, 5mm, 6mm ecc.

I nostri target di Sputtering possono essere legati con una piastra di supporto in rame su richiesta. Purezza, forma e dimensione diverse possono anche essere personalizzate per i target di Sputtering in ossido di zinco/ossido di alluminio (AZO).

Dalla selezione delle materie prime al controllo della temperatura, della pressione e del tempo di sinterizzazione a caldo, seguiamo rigorosamente lo specifico processo di produzione, così i target ceramici sputtering finiti presentano le caratteristiche di elevata purezza, elevata densità, colore superficiale uniforme senza macchie e crepe; l'utente finale può ottenere velocità di erosione costanti e film sottili omogenei e altamente puri durante il processo PVD.

Bersaglio di sputtering di ossido di zinco/ossido di alluminio (AZO)

Composizione regolare: ZnO/Al2O3=98/2wt%, 99/1wt%, ecc.

Purezza: 99,99%;

Metodo di produzione: sinterizzazione a caldo

Dimensioni disponibili:

Circolare: Diametro=1", 2", 3" e 4", altre dimensioni possono essere personalizzate

Rettangolare: lunghezza=3mm e 6mm

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