Bersaglio di sputtering di ossido di tantalio (Ta2O5)
Bersaglio di sputtering di ossido di tantalio (Ta2O5)

Bersaglio di sputtering di ossido di tantalio (Ta2O5)

Il bersaglio per sputtering di ossido di tantalio può essere utilizzato in semiconduttori, deposizione chimica da vapore (CVD), deposizione fisica da vapore (PVD) display e applicazioni ottiche. Siamo un fornitore di bersaglio per sputtering di ossido di tantalio di alta qualità a prezzi competitivi.
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Descrizione dei prodotti

 

Il bersaglio per sputtering di ossido di tantalio può essere utilizzato in semiconduttori, deposizione chimica da vapore (CVD), deposizione fisica da vapore (PVD) display e applicazioni ottiche. Siamo un fornitore di bersaglio per sputtering di ossido di tantalio di alta qualità a prezzi competitivi.

 

Nella produzione di circuiti integrati, i target di pentossido di tantalio sono spesso utilizzati per preparare lo strato dielettrico dei condensatori. Poiché il pentossido di tantalio ha buone proprietà dielettriche e un elevato indice di rifrazione, può fornire una capacità stabile e un'elevata velocità di trasmissione del segnale nei condensatori. Inoltre, il pentossido di tantalio può anche essere utilizzato per preparare pellicole ottiche, come lenti ottiche e filtri. Il suo elevato indice di rifrazione e la sua trasparenza gli conferiscono vantaggi unici nei dispositivi ottici.

 

I target di pentossido di tantalio sono utilizzati anche nel campo energetico. Grazie alla sua buona stabilità chimica e all'elevato punto di fusione, il pentossido di tantalio può essere utilizzato come componente chiave di batterie ad alta temperatura e dispositivi di accumulo di energia. Ha un'eccellente conduttività elettrica e una bassa mobilità degli elettroni in ambienti ad alta temperatura, quindi può fornire una conversione energetica efficiente e prestazioni di accumulo. La sinterizzazione dei target di pentossido di tantalio è un passaggio importante nella preparazione di materiali ceramici funzionali ad alte prestazioni.

 

Controllando la temperatura e il tempo di sinterizzazione, è possibile ottenere un target con microstruttura uniforme e struttura cristallina densa. I target di pentossido di tantalio hanno ampie prospettive di applicazione nei campi dell'elettronica, dell'ottica e dell'energia e forniranno un importante supporto e promozione per lo sviluppo di campi correlati.

 

Applicazioni

 

Il target per sputtering di ossido di tantalio è utilizzato principalmente nell'industria elettronica e informatica, nel campo del rivestimento del vetro, nei materiali resistenti all'usura, nella resistenza alla corrosione ad alta temperatura, nei prodotti decorativi di alta qualità e in altri settori.

 

Materiale

Obiettivo Ta2O5

Purezza

99.99%

Misurare

Diametro 1", 2", 3", 4" o personalizzato

Densità relativa

oltre l'80%

Forma

Rotondi, rettangolari, granuli o personalizzati

Tecnologia

sinistro

Legame

Indio, Elastomero

Superficie

Terra

 

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