Descrizione dei prodotti
Il target in lega di nichel-vanadio ad alta purezza ha una lucentezza metallica bianco-argentata, densità: 6,11 g/cm3, punto di fusione 1910 gradi, punto di ebollizione 3407 gradi. È una delle leghe per sputtering a film sottile più importanti nel campo dei semiconduttori. Ha le proprietà chimiche, elettriche e ottiche richieste per il Ni puro con l'ulteriore vantaggio di essere non ferromagnetico. Grazie alle sue proprietà non ferromagnetiche, è facile da usare in apparecchiature per sputtering magnetron ad alta velocità.
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Elemento: |
Lega NiV |
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Purezza: |
3N 3N5 |
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Forma: |
Bersaglio planare; Ruota bersaglio |
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Quantità minima richiesta: |
1 pz |
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Pacchetto: |
Confezionamento sottovuoto a tre strati o protezione con gas argon, in linea con le specifiche di imballaggio IATA, DOT |
Specificazione
Dimensioni: D152,4X6mm, personalizzabili su richiesta.
Forma: bersaglio piatto, bersaglio rotante, personalizzazione di forma speciale
Flusso di processo Preparazione del materiale - Fusione - Analisi chimica - Forgiatura - Laminazione - Ricottura - Ispezione metallografica - Lavorazione - Ispezione dimensionale - Pulizia - Ispezione finale - Imballaggio
Applicazione
Principalmente utilizzati nello sputtering magnetron reattivo per depositare strati dielettrici come SiO2 e SiN. Come importanti materiali funzionali a film sottile, hanno buona durezza, proprietà ottiche, dielettriche e resistenza all'usura. La resistenza alla corrosione dei target in silicio ha ampie prospettive di applicazione nei campi dell'ottica e della microelettronica, ed è attualmente ampiamente utilizzata come materiale funzionale in tutto il mondo. Attualmente, i target in nichel vanadio sono utilizzati nella deposizione di film sottili, decorazione, semiconduttori, display, dispositivi LED e fotovoltaici, rivestimenti funzionali e altre industrie di spazio di archiviazione di informazioni ottiche, industrie di rivestimento del vetro come vetro per auto e vetro architettonico, comunicazioni ottiche, ecc.
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