Descrizione dei prodotti
I target di sputtering in lega di alluminio e titanio (AlTi) sono prodotti con tecnologia HIP, ampiamente utilizzati per il rivestimento di utensili e rivestimenti decorativi. Rispetto alla tecnologia di fusione, i target TiAl prodotti con tecnologia HIP hanno una struttura micro-interna più uniforme, una granulometria più piccola e sono adatti a varie macchine per sputtering magnetron e macchine per placcatura ionica. L'utente finale può ottenere velocità di erosione costanti nonché un rivestimento a film sottile omogeneo e ad alta purezza durante il processo PVD.
Gli utensili rivestiti con film sottili AlTi hanno velocità di avanzamento più elevate, migliori prestazioni di taglio, maggiore durata utile e possono essere ottenuti senza difficoltà maggiori tassi di asportazione del metallo.
I target di sputtering in alluminio e titanio e i catodi ad arco sono utilizzati anche per rivestimenti decorativi, per ottenere pellicole di colore marrone dorato e nero brunastro. L'utente finale può ottenere una buona durezza, un'elevata luminosità, un colore resistente alla corrosione e all'ossidazione senza scolorimento per molto tempo. I nostri target sono già stati qualificati da molti utenti finali, tra cui produttori di orologi, sanitari, specchietti per auto, ecc.
Abbiamo AlTi25/75at%, AlTi30/70at%, AlTi33/67at%, AlTi40/60at%, AlTi50/50at%,
Target e catodi AlTi70/30at% per rivestimenti decorativi e di utensili. La flessibilità del nostro processo di produzione consente di adattare la microstruttura dei nostri materiali di rivestimento per ottenere l'effetto desiderato. Se i grani del target di sputtering sono allineati uniformemente, l'utente può beneficiare di velocità di erosione costanti e strati omogenei.
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Nome |
Obiettivo in lega AlTi |
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Materiale |
Lega di alluminio e titanio |
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Purezza |
>5N >99.9999.8 |
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Misurare |
Personalizzato |
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Colore |
Argento |
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Forma |
Personalizzato |
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Superficie |
Superficie lucidata; Ra inferiore o uguale a 1,6 μm |
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Densità |
≈2,72 g/cm³ (in base alla proporzione di titanio e alluminio) |
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Applicazione |
Utilizzato per circuiti integrati, rivestimento di pellicole PVD, rivestimento sotto vuoto, ecc. |
Composizione disponibile
Obiettivo di sputtering AlTi25/75at%
Obiettivo di sputtering AlTi30/70at%
Obiettivo di sputtering AlTi33/67at%
Obiettivo di sputtering AlTi40/60at%
Obiettivo di sputtering AlTi50/50at%
Obiettivo di sputtering AlTi70/30at%
Etichetta sexy: bersaglio di sputtering in alluminio e titanio (alti), Cina fornitori di bersaglio di sputtering in alluminio e titanio (alti), fabbrica
