Bersaglio per sputtering di cobalto

Il cobalto è un metallo duro e fragile, che assomiglia al ferro e al nichel nell'aspetto. Ha una permeabilità metallica di circa due terzi di quella del ferro. Il cobalto tende a esistere come una miscela di due allotropi in un ampio intervallo di temperature. La trasformazione è lenta e spiega in parte l'ampia variazione nei dati riportati sulle proprietà fisiche del cobalto.

Punto di fusione: 1495 gradi Punto di ebollizione: 2927 gradi

Un target di sputtering è un disco di materiale ad alta purezza utilizzato come sorgente di sputtering atomico per il bombardamento con fascio di ioni. Vi preghiamo di contattarci se le dimensioni e/o la purezza del target di sputtering richieste non sono elencate.

Lo sputtering è un metodo ampiamente utilizzato nella deposizione di film sottili, che impiega un processo di deposizione fisica da vapore (PVD) in cui gli atomi vengono espulsi da un materiale solido bersaglio mediante il bombardamento del bersaglio da parte di particelle energetiche.

Nel caso di un target di sputtering di cobalto, viene utilizzato cobalto ad alta purezza come materiale target. Il processo inizia creando un plasma nella camera di sputtering, in genere con gas argon. Gli ioni del plasma vengono accelerati verso il target di cobalto con energia sufficiente a dislocare gli atomi di cobalto dalla superficie del target. Quando questi atomi di cobalto vengono espulsi, attraversano la camera a vuoto e si depositano su un substrato, formando una pellicola sottile con le proprietà desiderate. Le condizioni di sputtering, tra cui la potenza applicata al target, il livello di vuoto e la composizione del gas, vengono meticolosamente controllate per ottenere le caratteristiche della pellicola richieste, come spessore, uniformità e struttura cristallina.

I rivestimenti a film sottile di cobalto (Co) prodotti tramite sputtering sono integrali in vari settori grazie alle proprietà magnetiche del cobalto, alla resistenza all'usura e alla stabilità chimica. Questi film sono utilizzati prevalentemente nel settore dell'archiviazione dati per supporti di registrazione magnetici. Trovano inoltre applicazioni nel settore dell'elettronica per la fabbricazione di sensori magnetici, componenti induttivi e sistemi microelettromeccanici.

I target di sputtering Cobalt Target sono realizzati con metalli ad alta purezza 99,99% cobalto

Spessore standard 0.1 mm (100µm) Altri spessori disponibili su richiesta

Diametro disponibile Ø 20.0 mm, 20.4 mm, 32 mm, 39 mm, 42 mm, 50 mm, 50.8 mm, 54 mm, 57 mm, 60 mm, 63.5 mm, 75 mm, 76 mm.

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